电子级过氧化氢

产品标准：Q/JX 001-2015

序号	项目	指标
序号	项目	HHP-Ⅰ	HHP-Ⅱ	HHP-Ⅲ	HHP-Ⅳ
1	含量（%）≥	30，35	30，35	30,35	30，35
2	稳定度，%≥	98	98	98	98
3	不挥发物，ppm ≤	30	20	20	10
4	酸度/以H2SO4计，ppm ≤	50	30	30	30
5	总有机碳（TOC），ppm,≤	50	40	20	10
6	pH值	1-4	2-4	2-4	2-4
7	氯化物（Cl），ppb,≤	500	500	200	200
8	硫酸盐（SO4），ppb,≤	2000	2000	200	200
9	磷酸盐（PO4）,ppb,≤	2000	2000	-	-
10	砷（As），ppb，≤	50	20	5	1
11	铅（Pb），ppb，≤	50	50	10	1
12	锡（Sn），ppb，≤	50	50	10	1
13	铁（Fe），ppb，≤	100	100	10	1
14	铜（Cu），ppb，≤	20	20	10	1
15	镍（Ni），ppb，≤	50	10	10	1
16	锰（Mn），ppb，≤	50	50	10	1
17	铬（Cr），ppb，≤	20	20	10	1
18	铝（Al），ppb，≤	500	100	10	1
19	镉（Cd），ppb，≤	50	50	10	1
20	钛（Ti），ppb，≤	100	50	10	1
21	锌（Zn），ppb，≤	100	50	10	1
22	锑（Sb），ppb，≤	20	20	5	1
23	钠（Na），ppb，≤	500	100	10	1
24	钾（K），ppb，≤	200	100	10	1
25	钙（Ca），ppb，≤	200	100	10	1
26	镁（Mg），ppb，≤	100	50	10	1
27	颗粒数/mL ≤	≥1μm，≤25	≥0。5μm,≤25	≥0。5μm,≤25	≥0.5μm，≤25

超净高纯电子级过氧化氢是微电子行业中一种十分重要的高纯试剂，主要用作半导体硅晶片清洗剂，蚀刻剂和光刻胶去除剂，还可用于高级绝缘层制取，电镀液无机杂质去除，电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理，以及太阳能硅晶片的蚀刻和清洗。在处理过程中，试剂中的杂质会对元器件性能产生致命影响，因此，超净高纯过氧化氢对纯度的要求非常苛刻。

包装

根据客户需求，产品有聚乙烯桶、吨槽、槽罐车等多种包装。
注：基于特殊的化学性质，过氧化氢的包装须使用有排气孔的容器。

桶装：200L/桶吨桶：1000 kg/槽槽罐车：30吨/车

运输

本品按氧化剂运输规则运输，防止剧烈振摇；
请勿直接用手接触，操作应配戴塑胶手套；
若不慎接触或包装发生泄漏，请用大量水冲净。

杭州精欣

产品介绍

电子级过氧化氢

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